ලෝහ ඔක්සයිඩ පටල ප්‍රතිරෝධක
 පිඟන් මැටි දඬු මත පිරිසිදු නිකල් ඔක්සයිඩ් (NiO) හෝ ටින් ඔක්සයිඩ (SnO2) වැනි පටලයක් තැන්පත් කර හෙලික්සාකාර කොටසක් ඉවත් කිරීමෙන් ලෝහ ඔක්සයිඩ පටල ප්‍රතිරෝධක නිපදවා ඇත.

තැන්පත් කරන ලද ලෝහ පටලයේ ඝනකම මත ප්‍රතිරෝධයේ අගය තීරණය වේ. මෙම වර්ගයේ ප්‍රතිරෝධක ඉහළ උෂ්ණත්වවලට හොඳින් ඔරොත්තු දෙයි. මේවායේ ප්‍රමත ජවය වොට් 0.125 සිට වොට් 0.5 දක්වා පරාසයේ පවතී.
(c) Shilpa Sayura Foundation 2006-2017